AiV在全球最高权威的ICCV2023发表两篇论文

工业用深度学习计算机视觉解决方案企业AiV宣布,已在计算机视觉领域享有全球最高权威的2023年国际计算机视觉大会(ICCV,International Conference on Computer Vision)上发表2篇Out-of-Distribution(OOD)Detection技术论文。

2024.01.23

  • 新闻稿 · 媒体报道
아이브AiV 세계 최고 권위 ICCV2023에서 논문 2편 발표

工业用深度学习计算机视觉解决方案企业艾博(AiV)表示,已在享有计算机视觉领域世界最高权威的2023年国际计算机视觉大会(ICCV, International Conference Computer Vision)上发表了2篇Out-of-Distribution(OOD) Detection技术论文。

艾博的责任研究员朴宰佑在本次大会上发表了两篇引人注目的论文。第一篇论文《Nearest Neighbor Guidance for Out-of-Distribution Detection》是同时解决以往基于分类器的异常对象检测所存在的过度自信(overconfidence)问题与KNN微细检测能力不足问题的研究。该研究在Papers with Code和OpenOOD基准测试中均达到最佳性能,备受关注。

第二篇论文《Understanding the Feature Norm for Out-of-Distribution Detection》探讨了异常对象检测中Feature向量长度的理论基础,并由此提出了一种使无监督方式高效异常对象检测成为可能的方法论。该研究尤其可有效应用于标注工作棘手且成本高昂的医学影像分析及自动驾驶系统领域。


责任研究员朴宰佑表示了如下抱负:“我们计划以这些研究成果为基础,将以往的Segmentation方式与OOD检测技术相结合,开发可在工业用深度学习计算机视觉检测中更有效使用的方法论,这有望为艾博在工业用深度学习计算机视觉检测领域确立技术领导地位作出重大贡献。”

除此之外,艾博还申请及注册了13项AI及机器视觉相关专利,持续致力于引领工业用深度学习计算机视觉解决方案领域的技术开发及研究工作,并于2023年9月入选KOREA AI STARTUP 100,其技术实力得到了认可。

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